文章编号：675 / 分类：最新资讯 / 更新时间：2024-11-15 14:46:08 / 浏览：次

来源：科创板日报

日本先进半导体代工企业 Rapidus 购入的第一台 ASM LEUV 光刻机将于 2024 年 12 月抵达北海道新千岁机场，这将成为日本首台 EUV 光刻设备。

EUV 光刻机的意义

EUV（极紫外）光刻机是一种先进的光刻技术，它使用波长极短的极紫外光来对硅片进行曝光，可以制造更精细、更复杂的半导体芯片。

EUV 光刻机的精度更高、吞吐量更大，可以满足日益增长的对先进半导体芯片的需求。

Rapidus 的计划

Rapidus 计划在 2025 年开始量产使用 EUV 光刻机的芯片。该公司已经获得了日本政府和企业的支持，计划在北海道建立一座新的半导体制造厂。

Rapidus 的目标是成为日本半导体行业的领军企业，并帮助日本在全球半导体市场中占据一席之地。

日本半导体行业的发展

日本曾经是全球半导体行业的领军者，但近年来份额有所下降。近年来，日本政府加大了对半导体行业的投资，以重振这一产业。

Rapidus 的成立和购入 EUV 光刻机，标志着日本半导体行业发展的一个重要里程碑。这将有助于提高日本的半导体制造能力，并使其在全球市场中更具竞争力。

EUV 光刻机的型号

Rapidus 购入的光刻机是较早期的 0.33NA 型号，而非目前全球总量不足 10 台的 0.55NA（High-NA）型号。

0.55NA 型号具有更高的精度，可以制造更精密的芯片。不过，0.33NA 型号仍然可以满足 Rapidus 目前的发展需求。

结语

Rapidus 购入日本首台 EUV 光刻机，对于日本半导体行业来说是一个重大的进展。这将有助于提高日本的半导体制造能力，并使其在全球市场中更具竞争力。

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