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EUV 光刻机下月中旬运抵 日本首台 用于 Rapidus ASML 晶圆厂试产 (euv光刻机和duv光刻机有什么区别)
来源，科创板日报日本先进半导体代工企业Rapidus购入的第一台ASMLEUV光刻机将于2024年12月抵达北海道新千岁机场，这将成为日本首台EUV光刻设备，EUV光刻机的意义EUV，极紫外，光刻机是一种先进的光刻技术，它使用波长极短的极紫外光来对硅片进行曝光，可以制造更精细、更复杂的半导体芯片，EUV光刻机的精度更高、吞吐量更大，可...。
更新时间：2024-11-15 14:46:08
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